旋光异构体分离柱ULTRON ES-OVM-3

1. 最大工作压力为30 Mpa。
2. LC/ MS中也可以使用。
3. 使用3μm的填料，可以得到更高的分离和理论塔板数。
4. 保持着高理论塔板数，同时可以大幅度减少分析时间。
5. 通过配管和流动池的最适宜化，可以进一步改善性能。